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© 2026 cohaga AG · All Rights Reserved · St. Gallen, Schweiz · Impressum744'814 Firmen indexiert · Zuletzt aktualisiert: heute
VerzeichnisIndustrieChemieindustrieBaselHTP HiTech Photopolymere AG
HTP HiTech Photopolymere AG Logo
Verifiziert· 3 Quellen

HTP HiTech Photopolymere AG

Zusammenfassung

Über die Firma

Die Kernaktivität des Unternehmens HTP HiTech Photopolymere AG besteht in der Entwicklung, Herstellung und Vermarktung von flüssigen Photolack-Formulierungen (Photoresisten) für verschiedene Anwendungen wie: * Die Herstellung von feinen Leiterbahnen auf Leiterplatten (Printed Circuit Boards) * Die Herstellung von flexiblen Leiterplatten (Flexible PWB) * Die chemische Bearbeitung von Metallen (Photo Chemical Machining, PCM) * Die Herstellung von elektrogeformten Komponenten (Electroforming) * Die Herstellung von fotogravierten Metallteilen (Photo Engraving) Das Unternehmen bietet auch Beratungsdienstleistungen und die Implementierung von Produktionsprozessen in den Bereichen Resist-Anwendung und -Bildgebung an.

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Fluessige Fotolacke
Fluessige Fotolacke fuer photochemische Bearbeitung, Metallätzen und Elektroformung; Formulierungen fuer Feinlinienauflösung, Massstabilität und Applikation durch Tauchen, Spruehen oder Walzenbeschichtung.
Fluessige Fotolacke
Fluessige Fotolacke fuer die Fertigung der Innenlagen in mehrlagigen Leiterplatten; Formulierungen fuer Feinlinienauflösung, Kupferhaftung, Tauchen oder Walzenbeschichtung sowie kundenspezifische Prozessanpassung.
Spezialbeschichtungen
Ablationsresists, Imprint-Resists und massgeschneiderte Funktionsbeschichtungen fuer Laserablation, Nanoimprint-Lithografie und andere nicht standardisierte Anwendungen mit Bedarf an kundenspezifischen Resist-Formulierungen.
Prozesschemikalien
Wässrige Prozesschemikalien zum Reinigen, Vorbehandeln, Entwickeln und Entschichten; Vorreiniger, Oberflächenaktivatoren, Entwickler, Entschichtungschemikalien, Reinigungsmittel fuer Anlagen sowie Entschaumer.
Beratung und technische Dienstleistungen
Beratung, Troubleshooting und Auftragsforschung fuer Photoresists, Beschichtungstechnologien und Nasschemie-Prozesse; technische Unterstuetzung, Prozessoptimierung und kundenspezifische Entwicklung vom Labor bis zur Produktion.
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09:00 - 17:00
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09:00 - 16:00
Sa
Geschlossen
So
Geschlossen

Auf einen Blick

Rechtsform
Aktiengesellschaft
UID
CHE-108.590.534
Gegründet
2001 · 25 Jahre
Letzte HR-Änderung
12. August 2025
Mitarbeitende
1 bis 10

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